日本 OptoSigma 西格玛 XRDCH-50-S5-C0 镜片成型X射线成像装置
日本 OptoSigma 西格玛 XRDCH-50-S5-C0 镜片成型X射线成像装置细节通过闪烁体 （LuAG：Ce） 和主体材料的衬底（无添加剂的 LuAG）的固相扩散键合，实现了具有高光学特性的薄膜闪烁体（薄至 5 μm），抑制了结界面处产生的光的散射和反射。它具有高空间分辨率，可以解析200 nm的线和空间图案。由于没有易受 X 射线影响的粘合层，因此可以预期对 X 射线的高耐久性。由于基
日本 OptoSigma 西格玛 XRDCH-50-S5-C0 镜片成型X射线成像装置
通过闪烁体 （LuAG：Ce） 和主体材料的衬底（无添加剂的 LuAG）的固相扩散键合，实现了具有高光学特性的薄膜闪烁体（薄至 5 μm），抑制了结界面处产生的光的散射和反射。
它具有高空间分辨率，可以解析200 nm的线和空间图案。
由于没有易受 X 射线影响的粘合层，因此可以预期对 X 射线的高耐久性。
由于基板屏蔽了 X 射线，因此可以抑制 X 射线对后续透镜的损伤。